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臺積電將推出12nm新工藝

2017-02-14 13:57:33

      最近臺積電方面表示,目前正在對此前的16nm技術(shù)進行改良,這個改良版本很有可能將使用12nm工藝制程,這也與其持續(xù)對于每一代工藝進行改良的策略相吻合。  
      在近期的財務(wù)會議上,有分析師詢問臺積電高層,是否真的研發(fā)了12nm,臺積電高層回應(yīng)稱現(xiàn)在確實在研究類似的東西,但沒有明確提到12nm,可能并不確定是否命名為12nm。
      12 nm工藝相對于如今的 16 nm來說,不僅擁有更高的晶體管集成度,而且在性能和功耗方面得到了進一步優(yōu)化,有較大的提升幅度。存儲芯片的工藝往往決定著功耗、性能和發(fā)熱等因素,而目前達到量產(chǎn)級別的最先進工藝已經(jīng)到達了10nm級別,此前發(fā)布的驍龍835則采用了三星10nm制程工藝,而今年即將發(fā)布的新款iPhone則會使用臺積電10nm工藝。
       如今現(xiàn)已有許多信息表明,無論是臺積電還是三星,在 10 nm制程工藝上都遇到了良率問題,而這也直接導(dǎo)致采用改工藝的蘋果A10X、高通驍龍835、聯(lián)發(fā)科Helio X30等移動芯片供貨緊張,這個問題有可能會持續(xù)一整年。
臺積電的 16 nm工藝已經(jīng)研究開發(fā)了多個版本,包括FinFET、FinFET Plus等,若推出 12 nm工藝,不僅可以在市場上緩解 10 nm工藝帶來的供貨緊張的問題,而且還可以市場營銷上反擊三星、GlobalFoundries、中芯國際等對手的 14 納米工藝,避免訂單的流失。
       如今還無法確定該工藝的制程將何時開始應(yīng)用,但目前擺在臺積電面前的重要問題是:10 nm工藝的良率還進一步提升的空間,臺積電的合作客戶產(chǎn)品包括蘋果A10X、A11、Helio X30、麒麟970等都存在一定的供需緊張問題。

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